借此国际光日，小编带你了解一下光学工程这个苦牛逼的学科。光学工程不就是光学在工程上的应用嘛，光学的分支而已。
呵，naive！
1997年，在我国“光学之父”王大珩院士的建议下，国务院学位委员会同意将“光学工程”列为工学一级学科。作为一门理工交叉的学科，光学工程光明正大地和信息科学、能源科学、材料科学、计算机科学……紧密交叉、互相渗透、各有一腿
。
光通信与光存储、太阳能电池技术、稀土发光、光刻机、平板显示、轨道交通……这些高精尖的工程领域都有光学工程的参与。接下来小编就领你见识一下这位工科中的高大上先生——光学工程。
光学工程与空间望远镜
要说光学原理与其他学科的综合应用，最著名的例子当属哈勃望远镜。哈勃自1990年服役以来，已在轨摄影20余年。它成功弥补了地面观测的不足，帮助天文学家解决天文学基本问题，是天文史上的重要仪器。
4000光年外的礁湖星云（哈勃摄影）
哈勃的建造是个庞大的光学工程，其建造计划一经批准，被拆分成多个子计划，由美国太空总署（nasa）的多个研究中心分摊光学系统、望远镜设计及建造、传感器的设计、地面控制等任务。
光学系统是哈勃的心脏，其采用卡塞格林式反射系统。虽然只有主次两镜，但哈勃在设计和制造上有着严格的规范，要求镜子在抛光后的面形误差应小于可看见光波长的1/20（约30纳米）。科研人员使用极端复杂的电脑控制抛光机研磨镜子，2.4米的主镜磨了3年，经费也一度超出nasa的预算。
卡塞格林式望远镜光路图
尽管研究人员严格控制精度，在哈勃发射升空的数星期后，其发回的图片还是产生了严重的球面像差。经分析显示，用来测量镜面质量的校正仪器存在偏差，导致实际镜面存在2微米的误差。为修正这仅仅2微米的误差，1993年12月，“奋进号”载着7名宇航员升空，为哈勃加装了拥有相同球差，但功效相反的光学系统。并且为给校正光学系统提供位置，舍弃了高速光度计。尽管代价巨大，哈勃带上“眼镜”后，终于看到了无码的宇宙
。
哈勃“戴眼镜”前、后拍摄到的图像
哈勃已工作28年，先后经历5次大修，早该退役，其退休时间的不断延长都要怪“拖延癌”韦布空间望远镜。
韦布被认为是继哈勃望远镜后的太空探索者，其发射窗口从最初的2011年拖延至2019年春。今年3月nasa又将其发射期限定在2020年5月左右。
不知你在了解韦布的厉害以后，能否对这个“拖延癌晚期”选择原谅。哈勃主镜2.4米，望远镜总质量11吨，观测范围为可见光；而韦布在经费缩减后，拼接主镜的等效口径仍达6.5米，可观测红外波段，体重却比哈勃轻了一倍。哈勃运行高度570千米，而韦布的目的地是距地球150万千米的第二拉格朗日点。如此远的距离，使韦布不能像哈勃一样进行维修，这项光学工程的要求真的很严格。
韦布与哈勃的主镜比较
韦布可观测红外波段，而红外探测主要依据物体发出的热量，因此必须严格避免周围热源的干扰。韦布拥有一把“遮阳伞”，用以遮蔽来自太阳、地球，甚至月球的热量。遮光板共五层，每一层完全展开占地面积约300平方米，但厚度却不到50微米。在运载火箭中，韦布的遮阳板是收起状态，进入太空后展开，其展开机构共计100个。韦布的上一次延期就是为继续测试遮光板的展开工艺。
其实哈勃也经历过发射窗口推迟。空间望远镜工作条件苛刻，设计制造涉及学科广泛，是极其复杂的光学工程。小编期待有朝一日，韦布拍摄出比哈勃更为遥远的宇宙，给人类带来巨大的惊喜。
期待jwst带来的巨大惊喜
光学工程与30米地基望远镜
接下来，我们来谈谈地基望远镜。
望远镜制造中，口径的大小非常的关键，大口径的望远镜是天文学家的 “武器”，没了它，再聪明的天文学家也只能巧妇难为无米之炊。根据瑞利判据最小分辨角的公式，
，当波长
不变的时候，口径d越大，则分辨角α越小，分辨率越高。故而，在过去的几百年，望远镜的发展就是一个越做越大的过程。
自上个世纪九十年代以来，各国陆续建成8到10米地基望远镜，组成了最强望远镜阵容。最近十年以来，国际上又提出了30-40米的大口径望远镜计划，未来十年，光学望远镜很有可能会走向下一个纪元。
tmt正面图
tmt红外天文望远镜计划，30米望远镜（thirty meter telescope，tmt）是由美国加州大学和加州理工学院负责研制的，新一代的巨型光学天文观测设备。这项计划的花销大概是在9.7到12亿美元之间，建造地址计划在莫纳克亚山上，这是全世界最佳观测宇宙的地点之一。
tmt概念图
它的目标将定位于关于暗能量、暗物质、星系在过去130亿年的聚合和发展、超质量黑洞和星系之间的联系、在太阳系外的星球上搜寻生命等科研任务。
tmt效果渲染图
整个项目由多个国家共同承办，包括美国、日本、加拿大、中国等，其中中国主要是以提供物的形式支持项目的建造。加入项目后，南京天光所、长春光机所、理化所、光电所等机构都在不同方面为该项目奉献着力量。国家天文台天体物理学教授毛淑德认为，对于中国来说，这将是一次巨大飞跃。
光学工程与光刻机
不夸张地说，光刻机代表着精密仪器的最高水平之一。
芯片的重要性已经有目共睹，为了维持互联网产业的繁荣，我国每年要花两千亿美元在芯片进口上，占总进口百分之十。要制造一颗芯片，需要经过5000多道工序，其中光刻机，便是最重要的一环之一。
和传统的人手、机床等原始工具不同，光刻机是使用光作为自己的“刀”来对结构进行加工的。光刻机的这把刀，可谓是既锋利又精密。就量产精度而言，第四代光刻机可以达到22纳米，第五代光刻机可以达到5纳米，而实验室里甚至可以实现1纳米！我们以22纳米为例，普通人的头发直径约80微米，是22纳米的3600多倍。完全可以围绕一根头发刻一副北京地图出来。
光刻过程的示意图
实际上，光刻的原理不难，难还是主要难在光刻机的制造上。光刻机的镜头、光源生产、机械结构，几万个小元件的调整与制造，任何一点拿出来都是某个领域最强者的独门绝技。asml（高端光刻机的垄断者）的总裁温彼得曾经说过，如果说，光刻机镜头有整个德国那么大，那么形变最大的地方，不能高过一公分。可见对于机器制造来说，这种要求是多么的苛刻。
光刻机的原理图
全世界最高端的光刻机产自荷兰的asml公司，它是世界最高端的光刻机生产者，也是唯一的生产者。它所生产的极紫外光刻机（euv光刻机），可以前所未有地突破22纳米制程限制，被称为第五代光刻机。
amsl生产的光刻机
我国在芯片领域落后国际良多，国内量产精度最高的光刻机也不过90纳米，实验室里也只能实现22纳米。其中，我所在极紫外光刻方面首次完成了32nm光刻机的研制，在该方面迈出国内第一步，为未来的研究打下了良好的基础。
光刻机本来就是西方国家多年来的积累，我国没有经历过西方世界百年来的工艺钻研，底子不厚，技不如人，也是无可厚非。未来，我国会在这个领域快速追赶，相信华夏儿女多奇志，总有一天国产芯片也能走向全球。
总结
光学不仅是基础科学，也是技术科学。当光作为技术科学，应用于人类生产活动中时，能够扩展人们的视觉、听觉和触觉等功能，这包含了人体感觉的90%之多。
王大珩院士在《论光学工程》中写道，“光、机、电、算”已成为现代工程与技术的主要内涵。光的含义也已远远超出传统意义上的望远镜、显微镜等光学仪器。当前的光学仪器（其中大部分指测试计量仪器）已进入光（光学）、机（精密机械）、电（电子）、算（计算机）相结合的光电子技术的新时代。它表现在多功能、高效率的光机电算一体化，技术手段的自动化、智能化、数字化、获取数据从静态转向动态，从有感信息到无感信息。
最后，小编借在光学界广为流传，王大珩先生曾为自己填的词抒怀：
光学老又新，前程端似锦。
搞这般专业很称心！
